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16961-83-4,氟硅酸,硅氟酸,H<sub>2</sub>SiF<sub>6</sub>,144.09,-欧恩科化学|欧恩科生物|www.oknk.com.

F1126772,氟硅酸,AR,30~32%

产品价格 30.00 ~ 123.00

别名硅氟酸

CAS号16961-83-4

分子式H2SiF6

分子量144.09

MDL号MFCD00036289

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商品信息

简要参数

别名:

硅氟酸

CAS号:

16961-83-4

分子式:

H2SiF6

分子量:

144.09

MDL号:

MFCD00036289

Merk号:

EC号:

基本属性

属性

存贮条件塑料瓶密封阴凉处保存。
密度1.2700
 
危险属性
标识符号GHS05GHS05
信号词Danger
危害声明H314
警示性声明P280,P305+P351+P338,P310
个人防护设备Faceshields,full-face respirator (US),Gloves,Goggles,multi-purpose combination respirator cartridge (US),type ABEK (EN14387) respirator filter
风险声明 (欧洲)R34
安全声明(欧洲)S26;S36/37/39;S45
危害码(欧洲)C
是否危化品一般危化品
 
其他描述

1.性状:无色透明的发烟液体,有刺激性气味。[1]

2.熔点(℃):-20~-17[2]

3.沸点(℃):105(分解)[3]

4.相对密度(水=1):1.2[4]

5.饱和蒸气压(kPa):3.19(20℃)[5]

6.溶解性:溶于水。[6]

1.急性毒性[7]  LD50:430mg/kg(大鼠经口)

2.刺激性   资料

1.生态毒性  资料

2.生物降解性  资料

3.非生物降解性  资料

1、摩尔折射率:无可用的

2、摩尔体积(cm3/mol):无可用的

3、等张比容(90.2K):无可用的

4、表面张力(dyne/cm):无可用的

5、介电常数:无可用的

6、极化率:无可用的

7、单一同位素质量:143.982995 Da

8、标称质量:144 Da

9、平均质量:144.0918 Da

1.疏水参数计算参考值(XlogP):无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:7

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积0

7.重原子数量:7

8.表面电荷:0

9.复杂度:62.7

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:3

1.稳定性[8]  稳定

2.禁配物[9]  碱类、易燃或可燃物

3.避免接触的条件[10]  受热

4.聚合危害[11]  不聚合

5.分解产物[12]  氟化氢

储存注意事项[13] 储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃,相对湿度不超过80%。保持容器密封。应与易(可)燃物、碱类分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。

1.由湿法磷酸生产中释放出四氟化硅经水吸收制得。亦可由硅砂与氢氟酸反应制得或用硅砂、氟化钙和浓硫酸混合加热制得。

硅石粉酸解法在衬铅的酸解设备中先加入氢氟酸,然后逐渐加入硅石粉,使之反应。反应完成后,加入稻糠灰以中和游离的氢氟酸,同时起到漂白溶液的作用,过滤溶液,在滤出的清液中加入适量的黄丹粉(PbbO)以除去氢氟酸中带入的硫酸根,再经过滤,制得氟硅酸成品。其反应式如下:

1. 用于测定钡。分离钡和锶。铅、锡的电解精制。氟硅酸盐的制备。设备消毒。是制取氟硅酸钠、钾、铵、镁、铜、钡、铅和其他氟硅酸盐及四氟化硅的基本原料。用于金属电镀、木材防腐、啤酒消毒、酿造工业设备消毒(1%~2%H2SiF6)和铅的电解精制等。还用作媒染剂和金属表面处理剂。

2.氟硅酸也用于某些电镀的添加剂,氟硅酸或盐类用于镀铬添加,可与硫酸根有相似的作用,并可提高电流效率到20%左右,光亮度提高,光亮电流密度范围加宽;氟硅酸对镀铬层有活化作用,断电时间短,继续复镀,结合力几乎不受影响,所以在滚镀铬中氟硅酸为必要的添加成分;氟硅酸可降低镀铬的电流密度,提高镀层覆盖能力,但增加了镀液的腐蚀性。

3.制取氟硅酸盐及四氟化硅的原料,也应用于金属电镀、木材防腐、啤酒消毒等。[14]

危险运输编码:UN 1778 8/PG 2

危险品标志:腐蚀

安全标识:S26 S27 S45 S36/S37/S39

危险标识:R34

[1~14]参考书:危险化学品安全技术全书.第一卷/张海峰主编.—2版.北京;化学工业出版社,2007.6 ISBN 978-7-122-00165-8

 
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